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UV紫外老化箱內(nèi)的輻照度均勻性問(wèn)題

更新時(shí)間:2023-01-03  |  點(diǎn)擊率:1000

我們的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手喜歡想方設(shè)法讓他們的產(chǎn)品看起來(lái)比我們的性能更好。 最近,我們收到了一些關(guān)于 QUV 輻照度均勻性的問(wèn)題,因?yàn)槲覀兊母?jìng)爭(zhēng)對(duì)手發(fā)布了他們的熒光 UV 測(cè)試儀輻照度均勻性參 數(shù)。

他們聲稱,他們的熒光紫外線測(cè)試儀"在樣本表面的輻照度均勻度為   4%"。

 

但是 Over the Surface of the sample" 是什么意思?

我們的 競(jìng)爭(zhēng)對(duì) 手喜 歡吹噓 他們 4% 輻照度 均勻 "規(guī) 范, 但他們 傾向于 淡化 4%的實(shí) 際含 義。首 先,他們 使用了 不正確 的術(shù)語(yǔ) 。他們 要么說(shuō) 一致性是 96 %,要 么說(shuō)非 一致性 4%。其 次,這 個(gè)值不 是整個(gè)腔 室的均 勻性, 甚至也 不是腔 室某一 側(cè)的均 勻性。 它只是 說(shuō),在 6.35 × 9.53 厘米 (2.5 × 3.75 英寸)的面積上,輻照度不均勻性為 4%。這種 說(shuō)法誤 導(dǎo)了很 多客戶

 

再加上,樣品表面的均勻性對(duì)機(jī)械評(píng)價(jià)(如光澤或顏色)影響不大。在進(jìn)行這些測(cè)量時(shí),通常會(huì)對(duì) 標(biāo)本的中心部分進(jìn)行評(píng)估,因此外邊緣對(duì)測(cè)量的影響非常小。所以說(shuō)真的,這是一個(gè)愚蠢的規(guī) 范,因?yàn)樗鼘?duì)評(píng)估幾乎沒(méi)有影響。不管怎樣,我們?cè)跇?biāo)本的表面上確實(shí)有相同的輻照度均勻 性,所以那里沒(méi)有問(wèn)題。

 

那么 QUV  中真實(shí)的輻照度均勻度是多少?

雖然 QUV 樣品表面的輻照度均勻度與我們的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手相似,但我們可以提供更多的信息。除了樣品 表面的均勻性外,當(dāng)你排除設(shè)備邊緣的樣品支架時(shí),我們可以擁有大于   90%的整體輻照度均勻性。

 

 

但 是 設(shè)備邊緣的 支架呢?

QUV 邊緣的輻照度均勻度 下降到 80%以下, 但這是基于 物理和幾何 的限制, 適用于所有 熒光紫外 測(cè)試儀。

 

熒光紫外線燈發(fā)出的光貫穿整個(gè)長(zhǎng)度。標(biāo)本的大部分光線來(lái)自燈的最近部分,但它們也暴露在來(lái)自標(biāo)本 左側(cè)和右側(cè)的燈部分的光線下。


測(cè)試器左側(cè)的 樣品不會(huì)暴 露在來(lái)自 左側(cè)的光線 下,因?yàn)?/span> 燈不會(huì)進(jìn) 一步延伸到 左側(cè)。同 樣,位于測(cè) 試儀 右側(cè)的標(biāo)本也不會(huì)暴露在來(lái)自右側(cè)的光線下。  1   是這種效果的圖解演示。

 

image.png

1: 燈端部的樣品被暴露在較低的輻照度下的示例

 

那 么 應(yīng) 該 使用哪些 標(biāo)本位置呢 ?

盡管 末端 置的 輻照 度略,但 我們政策 是所標(biāo)本 位置可以 使用 ,但 強(qiáng) 烈推 薦標(biāo)重新 定位 (參見(jiàn) Q-Tip 21 標(biāo)本重 新定位是 最佳實(shí)踐 ")。如果客 戶不想重 新定位標(biāo) 本或要求 所有位置 的輻照 度均勻度為>90%, 那么他們可 以選擇將 末端的標(biāo)本 夾留空。

 

度均勻性如何?

 

我們最近也有一些關(guān)于 QUV 溫度 均勻 性的 問(wèn)題。 通過(guò) 正確 的安 裝和樣 品安 裝, Q UV 內(nèi)的 溫度 均勻 性非常好。

 

客戶 避免 末端 或標(biāo) 本之出現(xiàn) 任何隙是 非常 重要。這 些縫會(huì)導(dǎo) 致空沖出 腔室 ,從導(dǎo)致 相鄰試樣冷卻,并在其他位置產(chǎn)生熱 點(diǎn)。

 

結(jié)論

當(dāng)客戶要求 QUV 的一致性時(shí),正確地提出這個(gè)問(wèn)題是很重要 的。他們問(wèn)的是輻照度還是溫度均勻 ?他們測(cè)量的均勻度是在哪個(gè)區(qū)域? 們更喜歡使用箱體內(nèi)輻照度均勻 度,而不是樣品表面的均勻度 ,這 QUV  中是非常好的(>90%)

 

雖然 QUV 照度均勻性 很好,但 物理和幾 何定律限制 了燈具兩 端的輻照度 。我們建 議通過(guò)利 用標(biāo)本 重新定位來(lái)克服這一限制,這也提高了水噴霧和溫度均勻  性。

 

最后,在進(jìn)行溫度測(cè)量時(shí),正確安裝標(biāo)本支架是很重要的。有可能用來(lái)測(cè)量溫度的設(shè)備實(shí)際上降 低了測(cè)試儀的溫度均勻性!